光电废水处理设备

光电废水处理设备工艺流程：

分质预处理单元

光电生产产生的不同工段废水先分类收集，高浓度含氟、含酸碱废水单独导入对应预处理单元，通过格栅拦截硅片碎屑、包装残渣等大体积杂质后，进入调节池均质均量，再投加酸碱调节剂将pH稳定在6-9的适宜范围，随后加入氯化钙等药剂，使氟离子生成氟化钙沉淀，同步通过混凝沉淀去除大部分硅粉、悬浮物，大幅降低后续处理负荷。

光电协同主处理单元

预处理出水进入核心光电催化反应单元，在特定波长光源照射下，光电极表面生成强氧化性的电子-空穴对，wu需额外投加大量化学药剂，就能高xiao分解废水中残留的难降解有机物、微量重金属离子，处理过程无二次污染，污染物分解效率比传统单一生化工艺提升60%以上。

深度回用单元

光电处理后的出水依次流经超滤、反渗透膜分离系统，进一步截留残留的微小颗粒、溶解性盐类，zui终产出的纯水可直接回用于光电生产的清洗工序，回用率可达75%以上，大幅减少企业新鲜水取用成本，实现水资源的闭环循环利用。